信息量很大!進度比預想要快:國產光刻機為何最終能成?

來源:王新喜

文/王新喜


(資料圖)

日前,新華網罕見的發(fā)布了一篇《國產光刻機如何突圍?》的文章,從目前的進度來看,國產光刻機比預想要快,也最終能成,留給ASML的時間不多了。

信息量很大,光刻機關鍵環(huán)節(jié)或正在突破

新華網這則消息透露,上海微電子正致力于研發(fā)28納米浸沒式光刻機,預計在2023年年底將國產第一臺SSA/800-10W光刻機設備交付市場。而此前華為的一項最新專利,在極紫外光刻機核心技術上取得突破性進展。

此前,國家知識產權局公布了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”,這標志著華為在極紫外線光刻機核心技術上取得突破性進展。

這是官媒公布的消息,信源肯定靠譜。其次,上海微電子可以生產28納米光刻機,意味著我們解決了從0到1的問題;華為的“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”,則可以讓我們在極紫外線光刻機領域實現從1到100的發(fā)展。

從關鍵信息來看,是純國產28nm沉浸式光刻機將于年底交付。事實上,28nm光刻機和28nm芯片是不同的,28nm光刻機能造出的芯片遠遠不止28nm。芯片是芯片,光刻機是光刻機,對于28nm光刻機而言,最高是可以制造出7nm芯片的。

總的來說,目前該消息的發(fā)布,關鍵環(huán)節(jié)的突破可能只剩時間問題了。畢竟,中國國產光刻機的消息其實就和過去諸多卡脖子技術的突破一樣,外界永遠不知道進度,等知道的那一天,國產光刻機已經大規(guī)模量產了。

高端光刻機還不宜樂觀,卡脖子的地方還有兩處

荷蘭ASML的光刻機是集合了全球頂尖公司的產品,一臺光刻機有10萬多個零件,涉及的每一步都需要最先進的工藝與零件。ASML公司的EUV光刻機,需要頂級的鏡頭和光源以及極致的機械精度與復合材料,光源采用美國的Cymer,透鏡是德國的蔡司,復合材料是來自日本等等。光刻機的激光,鏡頭,雙工臺,都是精密儀器的頂尖水平。

在過去的一個共識是,光刻機在全球沒有一個國家能單獨造出來,它是集合了全球的頂尖科技的產物。業(yè)界有形象的比喻,用光在晶圓上畫圖,相當于兩架客機齊頭并進,一架機翼上掛一把刀,另一架飛機上粘一顆米粒,用刀在米粒上刻字。

但如果說這世界上選一個國家去單獨攻克這個難題,也只能是中國。

市場需求擺在這里,產業(yè)鏈就有足夠的動力,而現有的國產替代的產業(yè)集群也正在起來。包括科技公司,還有科研院所,高等院校,知識產權方面的專業(yè)機構等等。

從國內產業(yè)鏈公司方面,做光刻機核心組件的公司已經基本成型,做光源系統(tǒng),做物鏡系統(tǒng)的,做曝光光學系統(tǒng)的,做雙工作臺的,做浸沒系統(tǒng)的以及包括光刻膠,光刻氣體,光掩模版,光刻機缺陷檢測設備,涂膠顯影設備等,都有相關的公司與產業(yè)分布。

而根據新華網報道,國內多家A股上市公司已經進入到光刻機全球產業(yè)鏈各環(huán)節(jié)之中,包括光刻機光源系統(tǒng)廠商福晶科技,物鏡系統(tǒng)廠商奧普光電,涂膠顯影廠商芯源微、富創(chuàng)精密,光掩膜版廠商清溢光電、華潤微,缺陷檢測廠商精測電子,光刻膠廠商南大光電、容大感光,光刻氣體廠商雅克科技、華特氣體等。

不過,我們還不宜過于樂觀,目前還存在卡脖子的地方。

根據新華社的報道,記者調研的企業(yè)稱:“卡脖子”的難點主要在兩處:一是光源,光刻機要求體系小、功率高而穩(wěn)定的光源;二是鏡片,為了讓光線能夠精確地照射到硅片上刻畫出微小的圖案,需要一系列高精度和高光滑度的鏡片來聚焦和校準光線。

但是難點在一點點攻克。上海微電子副董事長賀榮明在受訪時表示:“2002年,我國專家出國考察時,對方工程師說,哪怕把所有圖紙都給你們,你們也未必能做出光刻機。”回國后,賀榮明帶領團隊夜以繼日攻關,目前,上海微電子已可量產90納米分辨率的SSX600系列光刻機,28納米分辨率的光刻機也有望取得突破。

據傳上微的SSA800光刻機類似于阿斯麥的DUV2000i,但指標要比2000i高些,通過工藝優(yōu)化可以做到7nm集成電路制程。已經跑線一年了,從定型看差不多年底會批量生產。

進度比預想的快,荷蘭要在功勞簿上添一筆

根據浙商證券研報表示,當前我國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34%、40%、90%;在涂膠顯影、刻蝕、真空鍍膜的國產化率達到10%至30%;在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入的國產化率暫時低于5%。

在在目前來看,國產化率在逐步提升,國產替代節(jié)奏在加快。國產DUV光刻機進展還處于保密階段,把量產時間都放出來了,意味著組裝成整機,量產的時間也有望提前了。

以往的歷史經驗告訴我們,一旦中國在某項技術領域取得突破,國外品牌會開始加大出貨,甚至通過市場降價傾銷的方式來限制國產品牌研發(fā)投入與產品競爭力。

正如某業(yè)內人士表示,光刻機那么復雜的東西,做出來的產品一年全行業(yè)銷售額還不如小米一家賣手機銷售額的一半。等你萬一做出來了,ASML就可以降價打死你,因此,在過去市場開放的年代,光刻機以前其實連試錯的機會都沒有。資本是逐利的,誰砸錢給你玩這個?但就是這么巧,美國硬是給國內企業(yè)創(chuàng)造了這么個賺錢的機會。ASML沒法來競爭了。

而目前的這個進度,也已經在荷蘭的預料之外,比如說,2022年同興達還在說光刻機要用日本的, 結果23年實際搬進來的是上海微電子的光刻機,當然是微米級的。

另據光刻機行業(yè)人士透露,納米級早已研制出來了,只不過達不到10nm以內。目前還需要時間,從驗收到真正商業(yè)化還需要3-5年;好消息是DUV目前看來只剩時間問題了。而且EUV和DUV是同步研發(fā),兩者的時間間隔可能比預期短,就像原子彈和氫彈。

從過往諸多技術的攻克與自主化替代來看,國內尖端技術領域的歷史性的機遇,往往都是外部壓力推著我們完成的。

這兩年荷蘭的一系列半導體設備出口管制新規(guī),限制部分先進光刻機設備出口,正在加快我國先進制程設備、零部件和材料的國產化步伐,國產光刻機的攻克,荷蘭的功勞要添上一筆。

從近期來看,美國要求阿斯麥不許給國內企業(yè)提供售后和保養(yǎng),國內的反擊措施包括斷供鎵和鍺,另一方面是部分企業(yè)要求退貨,如果退了一方面國產光刻機順理成章拿回市場,阿斯麥國內的企業(yè)將面臨巨大營收壓力。

一場輸不起的戰(zhàn)爭,中國光刻機產業(yè)為何能成?

國內的芯片產業(yè)、光刻機產業(yè),外界的環(huán)境與態(tài)度都在發(fā)生微妙的變化,也不應該過度樂觀,不管外界是封鎖還是解禁,都要按照自己的節(jié)奏去布局。

光刻機有10萬多零件,這就是個系統(tǒng)工程,各方分工協(xié)作,由點及面,可以產生巨大連鎖效應。比如哈工大的激光干涉儀,可以用來檢測光刻機的精度和穩(wěn)定性。也可以用來測量微細結構的尺寸和形狀,如微電子器件、光學元件等,還可以應用于其他領域。

因此,光刻機的突破的意義不僅僅在于應用于消費電子領域,還可以應用到光學儀器、精密機械、生物醫(yī)學等。對國內的眾多行業(yè)的技術突破都有重大意義,它是一個鏈式反應的突破,帶動的是眾多產業(yè)的突圍與升級。

中國人能把高鐵干到4萬公里,安全可靠,性能領先,除了中國哪個國家現在能做到?中國能在他國封鎖技術的情況下,把盾構機做到全球第一,能把空間站送上太空安全運行,能建成世界上最大的水力發(fā)電站,并且能保證安全運行這些巨型高科技設備,這世界上哪個國家能做到?

中國單獨把光伏產業(yè)做到世界第一,在電動汽車上把發(fā)展了上百年的燃油車干到被面臨淘汰的危險境地,除了中國又有哪個國家單獨做到?

光刻機是集合了全球的頂尖科技的產物,但同樣不代表中國不能做到。因為很多的事情,全球沒有任何一個國家能做到但中國做到了,只要中國集全國之力,下定決心去做一件事,過去就沒有做不到的,而且光刻機這種設備不制裁永遠沒機會國產替代。但目前外部恰恰創(chuàng)造了這樣的機會。

光刻機作為一個成熟的機械設備,有非常廣大的市場,對于中國的眾多產業(yè)的升級與安全有重大意義,中國必然需要去攻克,如果是必然需要去攻克的項目,光刻機的突破只是國內眾多產業(yè)升級過程的中的必然結果。

中國的進度之所以比預想中快,在于國內的制造業(yè)全產業(yè)鏈的布局對尖端設備的制造與研發(fā)有推動作用,中國的制造業(yè)產業(yè)集群優(yōu)勢是其他任何國家所沒有的,國人工作的效率是其他國家的3~5倍!成本比其他國家低50%以上。

尤其在中國舉國體制下要攻克的項目下,又能做到大量資金的持續(xù)投入,外部打壓又形成了自主攻克的共識,有最大的消費電子市場作為支撐,并在吸引全球人才、資本以及國內外大量理工科學生進入該行業(yè),從目前的進度與節(jié)奏來看,半導體產業(yè)的突破差的只是時間。

《芯片戰(zhàn)爭》這本書很早就說過,這真是一場我們輸不起的“戰(zhàn)爭”,但從目前來看,我們最終還是能贏。這個結果,3~5年可能就會見分曉。

作者:王新喜 TMT資深評論人 本文未經許可謝絕轉載 作者微信公眾號:智能新連接

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